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分離度對(duì)痕量分析的影響

發(fā)布時(shí)間:2012-11-28點(diǎn)擊次數(shù):1160

當(dāng)欲測(cè)的痕量組分能與干擾組分(主組分)充分分離,能在無(wú)干擾的情況下進(jìn)行峰高或峰面積的測(cè)量,就可以得到準(zhǔn)確性和重復(fù)性都好的定量分析結(jié)果。但遺憾的是痕量組分往往是在一個(gè)大峰(主組分)的尾部出現(xiàn),這將嚴(yán)重影響峰高或峰面積的準(zhǔn)確測(cè)定。在某些情況下欲測(cè)的痕量組分甚至完全被主組分的大峰掩蓋,因此,只有選擇最佳的色譜條件,增加分離度,將痕量組分與干擾組分很好分離,才能準(zhǔn)確地測(cè)定欲測(cè)痕量組分的量。
色譜分析中的分離度公式如下:

式中      α———分離因子;
          N ———色譜柱(或薄層板)的理論板數(shù);
          k'———容量因子。

    由式(2-3-26)可看出:α,N 和#& 三個(gè)參數(shù)是完全獨(dú)立的,每個(gè)參數(shù)均可被優(yōu)化,分別達(dá)到最佳值,以使Rs達(dá)到最

 

大。在優(yōu)化α,N和k',使欲測(cè)的痕量組分與干擾組分得到充分分離的同時(shí),還要考慮到要使欲測(cè)的痕量組分在洗脫過(guò)程中

 

盡量少被稀釋?zhuān)员銠z測(cè)器能夠檢測(cè)出來(lái),也就是要使欲測(cè)的痕量組分具有最大的峰高。為此,在色譜過(guò)程中要盡量減小峰

 

的展寬,因?yàn)橥瑯用娣e的峰,如峰寬加大,則峰高降低,峰高降低到某一程度,檢測(cè)器就無(wú)法檢測(cè)了。在色譜痕量分析中,

 

k'值不能太大,多選在0.5-1.5,以減少欲測(cè)痕量組分被稀釋?zhuān)@樣就能得到較窄的峰;要選用理論板數(shù)高的短柱(短

 

板),這樣可以最大限度地增大峰高,而不降低分離度。但是,選用小的#& 值和短柱都不利于提高分離度(Rs)),因此增

 

大分離因子α是改進(jìn)色譜痕量分析準(zhǔn)確度的最有效的方法。欲測(cè)的痕量組分的峰與干擾組分的峰嚴(yán)重重疊,往往只能通過(guò)改

 

變色譜系統(tǒng)的選擇性來(lái)消除,而不能用增加#& 值和加長(zhǎng)柱子的方法來(lái)消除。為此,在氣相色譜中可以通過(guò)降低柱溫,改變

 

固定相等方法來(lái)增大分離因子(α);在液相色譜中則可以通過(guò)改變洗脫液的組成,選擇合適的固定相等方法來(lái)增大分離因

 

子(!)。對(duì)難分離的物質(zhì)(α趨于1時(shí))對(duì)選擇性作用的微小增加就會(huì)顯著地影響峰高。如α值由1.01 提高到1.025時(shí),就

 

可以適當(dāng)減短柱長(zhǎng),保持分離度Rs不變,而峰高可增加2-5倍(k'值不變)